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半导体透明导电薄膜的制备和表征

孟立建教授系统阐述了透明导电薄膜的制备工艺与性能调控,重点探讨了制备参数对薄膜特性的影响、光学参数的计算方法,以及柔性衬底上的沉积技术。

讲座时间
2024-06-12 00:00:00
地点
待定
报告人
孟立建
收录时间
2026-07-16 14:06:35
形式
线下

报告介绍

孟立建教授系统阐述了透明导电薄膜的制备工艺与性能调控,重点探讨了制备参数对薄膜特性的影响、光学参数的计算方法,以及柔性衬底上的沉积技术。基于磁控溅射法,他揭示了溅射功率对薄膜晶粒尺寸与致密度的调控规律:功率过低导致薄膜疏松、迁移率下降,过高则引入晶格缺陷;同时指出,真空退火可减少氧空位、提升导电性,空气退火能调控光学带隙,实现透光与导电性能的平衡。报告会后,孟立建教授与参会师生进行了交流讨论。

报告人介绍

葡萄牙波尔图理工大学孟立建教授

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